詳細說明:
1500單溫區管式爐采用硅碳棒為加熱元件,額定溫度1400℃,最高溫度可達1450℃。采用宇電控溫儀表和S型熱電偶,可編程30段程序控溫,控溫精度±1℃。設備中包含一套316L不銹鋼快開法蘭,雙環密封技術,可應用于CVD實驗、熒光粉制備、真空或氣氛下材料燒結、基片鍍膜等實驗環境。
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1500單溫區管式爐采用硅碳棒為加熱元件,額定溫度1400℃,最高溫度可達1450℃。采用宇電控溫儀表和S型熱電偶,可編程30段程序控溫,控溫精度±1℃。設備中包含一套316L不銹鋼快開法蘭,雙環密封技術,可應用于CVD實驗、熒光粉制備、真空或氣氛下材料燒結、基片鍍膜等實驗環境。